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半導體潔凈室|半導體無塵車間建設方案 | 2023-10-17 |
文章来源:由「百度新聞」平台非商業用途取用"http://www.baidu.com/link?url=tp5a1Fx7vcRueYOIe1Tu8V3bLLzzRpS7XzbsjyGVfPZ-QWT0Bazl0V8j2yeVvrPuJXUH7lDnAXBMNtt-pNDi2g1cES5-mFlvLXOyO3OjnvC" 隨著半導體生產工藝的不斷發展, 更精密、集成度更高是行業發展的趨勢。目前,制造工藝已經進入亞納米時代,線寬都在30-180 納米之間,對生產設備的精度要求越來越嚴格,因此,除了設備本身的工藝水平需要達到生產要求以外,其所處的生產環境——潔凈室的各項指標也必須被嚴格地控制,包括:潔凈度、溫濕度、照度、氣流方向、振動靜電、磁場以及有害氣體等。其中的溫濕度控制是重點,其控制的效果直接影響著生產的優良率。目前半導體潔凈室對溫濕度的控制范圍通常為: 溫度22+-0.5℃,濕度45+-3%RH。本文通過對現有潔凈室溫濕度控制系統的研究,引入模糊控制,以提高溫濕度控制的實際效果。nn1 溫濕度處理過程nn對空氣單純地加熱或制冷(未達到飽和狀態)過程,是含濕量保持不變的過程,即絕對濕度保持不變的過程。濕空氣經過盤管加熱,溫度升高而相對濕度下降;相反,對冷卻過程,溫度下降而相對濕度相應升高,因此我們可以得出,溫度和相對濕度是兩個不同方向的控制量,要使溫濕度同時向相同的趨勢變化, 則單純靠加熱冷卻過程是不能實現的。冷卻去濕過程是濕空氣經冷卻達到飽和后繼續制冷的過程,濕空氣經過冷卻盤管結露析出水滴從而降低了絕對濕度,起到去濕的作用。因而我們可以將空氣處理過程分為加熱、加濕、降溫及降溫去濕等四個過程。圖1 中,橫坐標為含濕量,即每千克空氣所含有的水蒸量;縱坐標為攝氏溫度。根據目標狀態,絕對濕度線和目標溫度線可以劃分為四個控制區: Zone 1,Zone 2,Zone 3,Zone 4。nn為了達到目標溫濕度控制點,其對應的溫濕度控制分區處理過程為:在Zone 1 的范圍內,先降溫去濕,再加熱。在Zone 2 的范圍內,先降溫,再加濕。在Zone 3 的范圍內,先加熱,再加濕。在Zone4 的范圍內,先降溫去濕,再加熱。nn定義:D—控制對象含濕量,T—控制對象溫度。nn通常情況下, 對于設定值溫度22+-0.5℃,濕度45+-3%RH 而言,Zone1 和Zone3 的情況比較多,即需要先降溫去濕然后再加熱或者先加熱然后再加濕。nn2 潔凈室溫濕度處理基本流程及常見問題nn2.1 潔凈室溫濕度處理基本流程nn前攝像頭:5.0MP 后攝像頭:13.0MP AF半導體潔凈室廠房通常采用新風空調箱(Makeup Air Unit,MAU)+風機過濾單元(Fan Filter Unit,FFU)+ 關鍵字標籤:無塵室建置用品 |
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